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四氟化碳

  又称为四氟甲烷、Freon-14及R 14,是一种卤代烃(化学式:CF4)

  四氟化碳是目前微电子工业中用量 的等离子蚀刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。